Como los discos de pulido de obleas de cerámica de alúmina y los discos de lapeado de zafiro utilizados en semiconductores, pulido de diamantes, etc.
Proceso: Todo tipo de procesos de pulido y lapeado, como el pulido químico-mecánico (CMP), el pulido mecánico y el pulido de precisión.
Alta pureza y durabilidad química
Alta resistencia mecánica y dureza
Alta resistencia a la corrosión
Resistencia a alto voltaje
Resistente a altas temperaturas hasta 1700ºC.
Rendimiento de resistencia a la abrasión extremadamente alto
Excelente rendimiento de aislamiento
Todo tipo de tamaños 180, 360, 450, 600 mm, etc.
| Nombre del producto | Discos de pulido y lapeado de cerámica de alúmina de alta pureza (99,7%). |
| Material | 99,7% de alúmina |
| Tamaño normal | D180, 360, 450, 600 mm; también se aceptan tamaños personalizados. |
| Color | Marfil |
| Solicitud | Proceso CMP de obleas y zafiros en la industria de semiconductores. |
| Pedido mínimo | 1 foto |
| Unidad | Cerámica de alúmina 99,7 | ||
| Propiedades generales | contenido de Al2O3 | % en peso | 99,7-99,9 |
| Densidad | gm/cc | 3,94-3,97 | |
| Color | - | Marfil | |
| Absorción de agua | % | 0 | |
| Propiedades mecánicas | Resistencia a la flexión (MOR) 20 ºC | MPa (psix10^3) | 440-550 |
| Módulo de elasticidad a 20ºC | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Dureza Vickers | GPa (kg/mm²) R45N | >=17 | |
| Resistencia a la flexión | Promedio de calificaciones | 390 | |
| Resistencia a la tracción a 25ºC | MPa (psix10^3) | 248 | |
| Tenacidad a la fractura (KI c) | MPa* m^1/2 | 4-5 | |
| Propiedades térmicas | Conductividad térmica (20ºC) | W/mk | 30 |
| Coeficiente de dilatación térmica (25-1000ºC) | 1 x 10⁻⁶/ºC | 7.6 | |
| Resistencia al choque térmico | ºC | 200 | |
| Temperatura máxima de uso | ºC | 1700 | |
| Propiedades eléctricas | Rigidez dieléctrica (1 MHz) | ac-kV/mm (ac v/mil) | 8.7 |
| Constante dieléctrica (1 MHz) | 25ºC | 9.7 | |
| Resistividad volumétrica | ohmio-cm (25ºC) | >10^14 | |
| ohmio-cm (500ºC) | 2×10^12 | ||
| ohmio-cm (1000ºC) | 2×10^7 |
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