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Placa de pulido de obleas de cerámica de alúmina al 99,7% para CMP

Chemshunplaca de pulido de obleas de alúminaLa plataforma giratoria está fabricada con alúmina de alta pureza (99,7-99,9%). La cerámica de alúmina de alta pureza ofrece una rigidez excepcional y una excelente resistencia al desgaste para el pulido de obleas, manteniendo una buena forma superficial durante un largo período de tiempo. Su fabricación se realiza mediante PIBM. Es un componente esencial en la industria de semiconductores debido a su incomparable estabilidad térmica y dimensional, así como a su resistencia a entornos exigentes en equipos de procesamiento de microchips.

La planarización químico-mecánica (CMP), también conocida como pulido químico-mecánico, es una tecnología empleada en el proceso de fabricación de dispositivos semiconductores. Utiliza corrosión química y fuerzas mecánicas para aplanar las obleas de silicio u otros materiales de sustrato durante el procesamiento.

El equipo CMP se divide principalmente en dos partes: pulido y limpieza. La parte de pulido consta de cuatro secciones: tres plataformas giratorias de pulido y un módulo de carga y descarga de obleas. La sección de limpieza se encarga de la limpieza y el secado de la oblea para lograr un secado completo. En todo el equipo de pulido, la cerámica de alúmina desempeña un papel fundamental.

Las cerámicas de alúmina se utilizan habitualmente para preparar discos de pulido de obleas, que requieren alta pureza, alta durabilidad química y un buen control de la forma y la rugosidad de la superficie.

El disco de molienda cerámico Chemshun de 99,7 % Al2O3 está fabricado con materiales cerámicos avanzados, ideales para la molienda fina de diversos materiales, especialmente materiales frágiles como obleas, cerámica y vidrio. Nuestros discos de molienda cerámicos se pueden fabricar en diferentes tamaños según los distintos modelos de molienda y pulido.

Placa de pulido de obleas cerámicas de alúmina al 99,7%


Fecha de publicación: 30 de mayo de 2025