Cerámica de alúmina avanzada al 99,7%
Cerámica de alúmina de alta pureza (Al2O3:>99,7%)
-Plato giratorio/plataforma para pulido de obleas de alúmina
-Placa base de alúmina de alta pureza y gran tamaño para equipos de fabricación de pantallas LCD
Material:
Alúmina de alta purezaAl2O3:>99,7%
Solicitud:
Industrias de semiconductores, petróleo, química, fotovoltaica, LCD, etc., como piezas mecánicas, electrónicas, discos de inducción de microondas, piezas aislantes. Por ejemplo, la placa de pulido de obleas de cerámica de alúmina de alta pureza de gran tamaño/mesa giratoria es un componente importante del CMP en el pulido químico-mecánico, la placa base de alúmina para LCD.
Características:
Aluminio de alta pureza2O399,7% -99,9%
Alta resistencia mecánica
Alta resistencia al desgaste
Alto aislamiento eléctrico
Alta durabilidad química
Buena resistencia al calor y a la corrosión.
Ventaja del fabricante:
Contamos con la propiedad intelectual independiente del sistema de solidificación espontánea PIBM y producimos profesionalmente componentes cerámicos finos de alta calidad.
La nueva tecnología supera los problemas de deformación y agrietamiento de las piezas cerámicas húmedas de gran tamaño durante el proceso de preparación, y el rendimiento del producto se optimiza significativamente para las piezas cerámicas de gran tamaño preparadas mediante métodos tradicionales.
El pulido de obleas de cerámica de alúmina y zafiro de Chemshun Ceramics se basa en el proceso de producción PIBM. Se trata de una tecnología avanzada internacional. PIBM resuelve con éxito el problema clave de las grietas y deformaciones en cerámicas de alúmina de gran tamaño. La tecnología PIBM abrirá nuevas perspectivas en el campo de la cerámica fina. No solo producimos placas de pulido de obleas de cerámica de alúmina de alta calidad, sino también otras series de cerámicas de alúmina de gran tamaño y alta pureza, como sustratos cerámicos de 1200x500x20 mm para equipos de fabricación de LCD, pistas de transporte de semiconductores, piezas de vacío, piezas mecánicas generales y cerámica antibalas.
Forma y tamaño del producto
1. Plato giratorio/plataforma giratoria para pulido de obleas de alúmina. Disco, tamaño del anillo inferior a 850 mm, espesor de 45 mm.
2. Placa base de alúmina para LCD como receptores de soporte/placa portadora. Forma como placa larga, barra larga, placa cuadrada, placa delgada de tamaño inferior a 1500*600 mm, como por ejemplo: 1200x500x20, 1400x900x30, etc.
3. Rieles guía inferiores a 1000 * 45 * 45 mm.
4. Tubos vacíos, cilindros, tubos de vacío eléctricos, etc. Con un tamaño inferior a 300 ~ 600 × L500mm.
5. Se aceptan productos personalizados con piezas de diversas formas.
Parámetro principal: (químico/físico):
| Propiedad | Artículo | Unidad | Cerámica de alúmina Chemshun 99,7% |
| Propiedades generales | Componente principal | % en peso | 99,7-99,9 |
| Densidad | gm/cc | 3,94-3,97 | |
| Color | - | Marfil | |
| Absorción de agua | % | 0 | |
| Propiedades mecánicas | Resistencia a la flexión (MOR) 20 ℃ | MPa (psix10^3) | 440-550 |
| Módulo de elasticidad 20℃ | GPa (psix10^6) | 375 | |
| Dureza Vickers | GPa (kg/mm²) R45N | >=17 | |
| Resistencia a la flexión | Promedio de calificaciones | 390 | |
| Resistencia a la tracción 25℃ | MPa (psix10^3) | 248 | |
| Tenacidad a la fractura (KI c) | MPa* m^1/2 | 4-5 | |
| Propiedades térmicas | Conductividad térmica (20℃) | W/mk | 30 |
| Coeficiente de dilatación térmica (25-1000℃) | 1 x 10^-6/℃ | 7.6 | |
| Resistencia al choque térmico | ℃(∆ Tc) | 200 | |
| Temperatura máxima de uso | ℃ | 1700 | |
| Propiedades eléctricas | Rigidez dieléctrica (1 MHz) | ac-kV/mm (ac v/mil) | 8.7 |
| Constante dieléctrica (1 MHz) | 25℃ | 9.7 | |
| Resistividad volumétrica | ohm-cm (25℃) | >10^14 | |
| ohm-cm (500℃) | 2×10^12 | ||
| ohm-cm (1000℃) | 2×10^7 |
Proceso de moldeo Proceso de acabado cerámico
Seguro de calidad:
Cada lote de productos es inspeccionado en el laboratorio de la fábrica y en el Centro Nacional de Inspección.
